ویکیوم فارمرز کو بخارات کے ذریعہ یا بخارات کے ہدف کی ضرورت ہوتی ہے۔
ایک پیغام چھوڑیں۔
ویکیوم فارمرز کو بخارات کے ذریعہ یا بخارات کے ہدف کی ضرورت ہوتی ہے۔
کوٹنگ کی مختلف تکنیکوں میں بخارات سے بنی فلم بنانے والی نسلوں کو گیس میں تبدیل کرنے کے لیے بخارات کے ذریعہ یا ہدف کی ضرورت ہوتی ہے۔ مسلسل بڑھتے ہوئے ذرائع یا اہداف کے ساتھ، فلم سازی کے مواد کا انتخاب کافی حد تک پھیل جاتا ہے۔ چاہے یہ دھات، مرکب، مرکب، سیرامک یا نامیاتی مادہ ہو، مختلف دھاتی فلمیں اور ڈائی الیکٹرک فلمیں بخارات سے جمع کی جاسکتی ہیں، اور ملٹی لیئر فلموں کو حاصل کرنے کے لیے مختلف مواد کو بیک وقت بخارات میں جمع کیا جاسکتا ہے۔
ویکیوم بنانے والی مشین غیر متوازن میگنیٹران سپٹرنگ ٹیکنالوجی
لہذا، میگنیٹرون کوٹنگ مشین کم کام کرنے والے دباؤ اور وولٹیج کے تحت خارج ہوسکتی ہے، اور ہدف کے استعمال کی شرح نسبتاً زیادہ ہے۔ تاہم، سبسٹریٹ ایریا پر آئنوں کی کم بمباری ہوتی ہے کیونکہ الیکٹران مقناطیسی فیلڈ لائنوں کے ساتھ حرکت کرتے ہیں اور زیادہ تر ہدف کی سطح تک محدود رہتے ہیں۔ غیر متوازن میگنیٹران سپٹرنگ ٹیکنالوجی کے تصور کا مطلب یہ ہے کہ میگنیٹرون کیتھوڈ کے بیرونی مقناطیسی قطب کا مقناطیسی بہاؤ اندرونی مقناطیسی قطب سے بڑا ہے، یعنی دو مقناطیسی قطبوں کی مقناطیسی فیلڈ لائنیں مکمل طور پر بند نہیں ہوں گی۔ ہدف کی سطح پر، اور مقناطیسی فیلڈ لائنوں کا ایک خاص تناسب ہے۔ یہ ہدف کے کنارے والے حصے کے ساتھ سبسٹریٹ ایریا تک پھیلے گا، تاکہ الیکٹران کا کچھ حصہ مقناطیسی فیلڈ لائنوں کے ساتھ سبسٹریٹ تک پھیل سکے، اس طرح سبسٹریٹ ایریا میں پلازما کی کثافت اور گیس کے آئنائزیشن کی شرح میں اضافہ ہو گا۔ غیر متوازن توازن سے قطع نظر، اگر مقناطیس ساکن ہے، تو اس کی مقناطیسی فیلڈ کی خصوصیات 30 فیصد سے کم کے عمومی ہدف کے استعمال کی شرح کا تعین کرتی ہیں۔ ایک گھومنے والا مقناطیسی میدان ہدف کے استعمال کو بہتر بنانے کے لیے استعمال کیا جا سکتا ہے۔ اگر گھومنے والے مقناطیسی میدان کو گھومنے والے میکانزم کی ضرورت ہوتی ہے، تو پھٹنے کی شرح کم ہو جاتی ہے۔ گھومنے والے مقناطیسی میدان زیادہ تر بڑے یا قیمتی اہداف کے لیے استعمال ہوتے ہیں۔ مثال کے طور پر، سیمی کنڈکٹر پتلی فلموں کا پھٹنا۔ چھوٹے سامان اور عام صنعتی سامان کے لیے، مقناطیسی میدان جامد ہدف ذریعہ وسیع پیمانے پر استعمال کیا جاتا ہے ۔
www.superbheater.com
